高纯贵金属铑溅射靶材(Rh)铑环铑颗粒蒸发镀膜产品名称：铂靶、钯靶、银靶、铱靶、铑靶牌号规格：用途：主要用于磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等领域。

随着靶材在磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等产业的发展，我们加大在稀贵金属靶材研发和制备方面的投入力度，通过原料控制、真空感应熔炼、挤压、轧制、真空热压烧结、热等静压、放电等离子体烧结等不同工艺, 并采用严格的质量控制过程，我们能够制备多种靶材并能一直保持着批量供货。铑溅射靶材形状圆形、方形尺寸厚度3~15mm纯度≥3 5注：其它尺寸可根据客户要求制作。具体尺寸请联系销售。

常规金属靶材

镁Mg、锰Mn、铁Fe、钴Co、镍Ni、铜Cu、锌Zn、铅Pd、锡Sn、铝Al

小金属靶材

铟In、锗Ge、镓Ga、锑Sb、铋Bi、镉Cd

难熔金属靶材

钛Ti、锆Zr、铪Hf、钒V、铌Nb、钽Ta、铬Cr、钼Mo、钨W、铼Re

贵金属靶材

金Au、银Ag、钯Pd、铂Pt、铱Ir、钌Ru、铑Rh、锇Os

半金属靶材

碳C、硼B、碲Te、硒Se

稀土金属靶材

钆Gd、钐Sm、镝Dy、铈Ce、钇Y、镧La、镱Yb、铒Er、铽Tb、钬Ho、铥Tm、钕Nd、镨Pr、镥Lu、铕Eu、钪Sc

陶瓷靶材

氧化锌铝AZO、氧化铟锡ITO、氧化锌ZnO、氮化铝AlN、氮化钛TiN、氮化硼BN、钛酸钡BaTiO3、钛酸铋BiTiO3、碳化硅SiC、钛酸锶SrTiO3、碳化钛TiC、碳化钨WC、铌酸锂LiNbO3、钛酸镧LaTiO3、钛酸钡BaTiO3、钛酸锶SrTiO3、钛酸镨氧化铪HfO2、二氧化锆ZrO2、二氧化钛TiO2、三氧化二铝Al2O3、五氧化二铌Nb2O5、五氧化二钽Ta2O5、五氧化三钛Ti3O5、三氧化二铟In2O3、二氧化铈CeO2、氧化镁MgO、三氧化钨WO3、氧化钐Sm2O3、氧化钕Nd2O3、氧化铋Bi2O3、化锑Sb2O3、氧化钒V2O5、氧化镍NiO、氧化锌ZnO、氧化铁Fe2O3、氧化铬Cr2O3、氟化镁MgF2、氟化镱YbF3、氟化钇YF3、氟化镝DyF3、氟化钕等

合金靶材

金锡合金AuSn、金锗镍合金AuGeNi、锌铝合金ZnAl、铝铜合金AlCu、钴铁硼合金CoFeB、铁锰合金FeMn、铱锰合金IrMn、锆钛合金ZrTi、镍铬合金NiCr、铜铟镓合金CuInGa、铜锌锡硫合金CZTS、镍铬合金NiCr、镍钒合金NiV、锆钛合金ZrTi、铌锆合金NbZr、锌镉合金ZnCd、钛铝合金、TC4合金、钴铁合金CoFe、铝硅合金AlSi等