靶材有哪些？靶实际上是一个宽泛的概念，靶材的三类划分方法：1.按外形尺寸可分为圆柱形、长方形、正方形板靶和管靶;2.按材质分靶材可分为常规金属靶材，贵金属靶材，稀土金属靶材，非金属靶材，合金溅射靶材，陶瓷溅射靶材等;3.按照应用领域可分为半导体用靶材、显示面板用靶材、太阳能电池用靶材、磁记录用靶材等。

按靶材形状分类：

       常见的靶材多为方靶、圆靶，均为实心靶材。在镀膜作业中，圆环形的永磁体在靶材的表面产生的磁场为环形，会发生不均匀冲蚀现象，溅射的薄膜厚度均匀性不佳，靶材的使用效率大约只有20%～30%。而目前被推广的空心管靶可绕固定的条状磁铁组件一定周期旋转运动，360°靶面可被均匀刻蚀，优势明显，将利用率提高到80%。

按靶材材质分类：

常规金属靶材：

       铝靶材Al、铜靶材Cu、铬靶材Cr、钡靶材Ba、铋靶材Bi、镉靶材Cd、锆靶材Zr、锌靶材Zn、镍靶材Ni、钴靶材Co、钙靶材Ca、铌靶材Nb、铟靶材In、钨靶材W、钼靶材Mo、钒靶材V、铁靶材Fe、钛靶材Ti、铪靶材Hf、钇靶材Y、钽靶材Ta、锂靶材Li、镁靶材Mg、锡靶材Sn、锰靶材Mn、铅靶材Pb、硅靶材Si、铝靶材Al、铍靶材Be、铜靶材Cu、钪靶材Sc

贵金属靶材：

       银靶材Ag、金靶材Au、铂靶材Pt、钯靶材Pd、铑靶材Rh、铱靶材Ir、铼靶材Re、钌靶材Ru

稀土金属靶材：

       镧靶材La、铈靶材Ce、镨靶材Pr、钕靶材Nd、钐靶材Sm、铕靶材Eu、钆靶材Gd、铽靶材Tb、镝靶材Dy、钬靶材Ho、铒靶材Er、铥靶材Tm、镱靶材Yb、镥靶材Lu

非金属靶材：

       石墨靶材C、硼靶材B、锗靶材Ge、硒靶材Se、锑靶材Sb、碲靶材Te

合金溅射靶材：

       钛铝合金靶材TiAl、钛钨合金靶材TiW、钨镍合金靶材WNi、镍铬合金靶材NiCr、镍钛合金靶材NiTi、镍钒合金靶材NiV、镍铁合金靶材NiFe、铁钴镍铌合金靶材FeCoNiNb、钴铁硼合金靶材CoFeB、铁锰合金靶材FeMn、铁镓合金靶材FeGa、铜镓合金靶材CuGa、锰镓合金靶材MnGa、钨铼合金靶材WRe、铱锰合金靶材IrMn、铜铟镓硒合金靶材CIGS、钼铼合金靶材MoRe、铟锡合金靶材InSn、金锡合金靶材AuSn、金锗镍合金靶材AuGeNi、金锗合金靶材AuGe、锌铝合金靶材ZnAl、铝铜合金靶材AlCu、锆钛合金靶材ZrTi、铜锌锡硫合金靶材CZTS、钴铌锆合金靶材CoNbZr、钴钽锆合金靶材CoTaZr、铽钴合金靶材TbCo、铽铁钴合金TbFeCo

按靶材应用领域分类：

1、半导体应用领域细分

       电极、布线薄膜（铝靶材，铜靶材，金靶材，银靶材，钯靶材，铂靶材，铝硅合金靶材，铝硅铜合金靶材等）；

       储存器电极薄膜（钼靶材，钨靶材，钛靶材等）；粘附薄膜（钨靶材，钛靶材等）；电容器绝缘膜薄膜（锆钛酸铅靶材等）。

2、磁记录应用领域细分

       垂直磁记录薄膜（钴铬合金靶材等）； 硬盘用薄膜（钴铬钽合金靶材，钴铬铂合金靶材，钴铬钽铂合金靶材等）；

       薄膜磁头（钴钽铬合金靶材，钴铬锆合金靶材等）；人工晶体薄膜：（钴铂合金靶材，钴钯合金靶材等）。

3、光记录应用领域细分

       相变光盘记录薄膜（硒化碲靶材，硒化锑靶材，锗锑碲合金靶材，锗碲合金靶材等）； 磁光盘记录薄膜（镝铁钴合金靶材，铽镝铁合金靶材，铽铁钴合金靶材，氧化铝靶材，氧化镁靶材，氮化硅靶材等）；光盘反射薄膜（铝靶材，铝钛合金靶材，铝铬合金靶材，金靶材，金合金靶材等）。光盘保护薄膜（氮化硅靶材，氧化硅靶材，硫化锌靶材等）。

4、显示面板应用领域细分

       透明导电薄膜（氧化铟锡靶材，氧化锌铝靶材等）；电极布线薄膜（钼靶材，钨靶材，钛靶材，钽靶材，铬靶材，铝靶材，铝钛合金靶材，铝钽合金靶材等） 电致发光薄膜（硫化锌掺锰靶材，硫化锌掺铽靶材，硫化钙掺铕靶材，氧化钇靶材，氧化钽靶材，钛酸钡靶材等）。

5、其他应用领域细分

       装饰薄膜（钛靶材，锆靶材，铬靶材，钛铝合金靶材，不锈钢靶材等）；

       低电阻薄膜（镍铬合金靶材，镍铬硅合金靶材，镍铬铝合金靶材，镍铜合金靶材等）；超导薄膜（钇钡铜氧靶材，铋锶钙铜氧靶材等）；

       工具镀薄膜（氮化物靶材，碳化物靶材，硼化物靶材，铬靶材，钛靶材，钛铝合金靶材，锆靶材，石墨靶材等）。